箱式气氛炉是一种实验设备，适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备钼丝炉、箱式气氛炉、井式气氛炉、真空管式炉用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。
箱式气氛炉适用于工矿企业、大专院校、科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。可供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。箱式气氛炉是一种实验设备，适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备。主要用于材料试验、合成、烧结等。炉体保温性能良好，节能。箱式气氛炉还可用于、复合材料、粉体材料、结构陶瓷、合金的真空热压烧结。
箱式气氛炉工分为以下几个部分：
1.箱式气氛炉炉膛
炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑，炉膛内上下用碳化硅棚板，炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导（暗火加热），温度更均匀。炉壳密封。为提高密封垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部，经加热腔预热后分多处进入炉内，排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀，减小炉内温差。气路上装有气体流量计，用于正常使用控制气氛流量。
2.箱式气氛炉冷却
炉门采用循环式水冷。设有进出水接头。
3.箱式气氛炉电气
电气部分采用与炉体一体化结构，整个电气元件安装在炉体底部的一侧，结构紧凑、占用空间小。温控安装在炉体侧面板上，观察直观，调节方便，温控仪具有PID调节功能，可自动跟踪设定PID值，可任意设定测量分度密码，同时具备补偿功能，可使炉膛温度与显示值一致，控温方式：采用德国西门子技术，具有软启动、软关断、可控硅移相调压控制，0——98%输出可调节，面板上各种仪表开关等有相应的中文标牌。
箱式气氛炉于材料试验、合成、烧结等，在日常使用后用户也应注意到气氛炉的保养工作，保养时我们应该定期检查的项目有：
1.箱式气氛炉使用时不得超过额定功率，箱式气氛炉炉温不得超过使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内，含有过高水份的被加热工件应预先烘干。
2.保持炉膛清洁，对炉内的金属氧化物，炉渣和杂质等应及时。装卸工件时应谨慎，以防碰坏硅钼棒。
3.硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用，水蒸气对它有强烈的氧化影响，氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒，使用时严加注意、
4.箱式气氛炉车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa.
5.接通充气口充入CO2及其它保护气体，当箱式气氛炉压力表指示在0.02——0.04MPa时，停止充气。
6.通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
7.箱式气氛炉定期检查各接线头接触是否良好。
8.箱式气氛炉根据工艺设定温度，通电加温、保温。
9.当炉温升高，应随时注意，压力长，间断打开放气阀门，使炉胆内的压力在0.1MPa以下，这时胆的油烟等杂质可随之排出。
10.实行光亮退火，在升温时打开放气阀，随后充入保护气体，流量由小变大，当箱式气氛炉炉内压力为正压时，即关闭全部阀门，此工艺应经工艺试验，由熟练工人掌握。